国产光刻机传来消息,上海微电子进入新阶段,比尔盖茨的担忧成真

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伴随着全球半导体市场的快速发展,芯片制造技术的迭代速度也在不断加快。而受制于外部环境的变化,国内芯片代工企业想要扩建产能却并不容易。据了解,受到《瓦森纳协定》以及老美方面的干涉,中芯国际曾荷兰光刻机巨头ASML公司订购的EUV光刻机,卡在了最终的发货环节无法交付。

进入2023年之后,美、日、荷更是就先进芯片的制造设备的出口达成一致,收紧了部分DUV光刻设备的销售。此举,也一定程度的影响到了国内芯片代工产能的爬坡,中芯国际更是传出了部分工厂产能将会延期的消息。

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如此一来,中企想要扩产芯片代工规模,就必须解决芯片设备的供应问题。在这样的局面之下,国产光刻机也传来了好消息,上海微电子也即将进入新的发展阶段。

据相关数据统计:上海微电子是国内顶尖的光刻机设备制造商,其生产的后道光光刻机设备,更是在国内占据了80%的市场份额(全球市场40%)。因此,在美新规问世之后,这家企业就被寄予众望,希望其能够早日解决芯片设备的技术问题。

从官网来看,上海微电子已经能够生产出90nm制程的ArF光刻机,通过多重曝光以及工作台技术的辅助,可以被用于生产48nm~65nm的芯片产品,但却始终没有传出该设备进入生产线投产的消息。

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近日,就有网友爆料,国产光刻机已经进入了新的阶段,即上海微电子自主生产的光刻机设备,已经进入到了国内供应链正准备通电试运行。

而这次爆料的消息可信度非常高,因为,采购该设备的厂商北京燕东微电子,正在建设一条12英寸晶圆的生产线,该产线的名称为《基于成套国产装备的特色工艺12吋集成电路生产线项目》,目标是打造中国首条国产自主可控的芯片生产线。

按照规划,该项目的一期是在今年的4月份进行试投产,相关的设备均已采购到位。对于上海微电子而言,这也意味着自研光刻机设备进入到了新阶段。

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在此之前,国产光刻机进展缓慢的主要原因,就是缺少实际的投产工厂。设备生产出来却没有人下订单投产,导致设备的参数调教速度缓慢,进而影响到了设备的更新、迭代速度。

如今,国内大力发展半导体产业,上海微电子自主研发的光刻机设备也就有了用武之地。所以说,这次国产光刻机的发展,进入到了新阶段。

之前比尔盖茨就曾表示,限制相关芯片企业的出货,最终,只会导致部分美国人丢失自己的高薪岗位,而中国则会在这样的背景之下,逐步实现自给自足。

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如今来看,比尔盖茨的担忧已经成真了,国产芯片的生产线建设完成,就意味着国内将逐步实现芯片制造产业的闭环。通过国产设备替代的方式,来完成芯片的全流程制造。而这种模式一旦成功的运作起来,相关领域的技术突破速度势必会大幅度加快。

另外,上海微电子据传一直在攻坚28nm制程的浸润式光刻机,只不过部分零部件的供应问题还没有解决。如果传言切实,国产28nm制程光刻机,很有可能会在近两年完成首台设备的交付。届时,仅凭借国产设备,就能够量产大多数14nm以上的芯片产品。

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按照工程院院士倪光南的说法,28纳米等成熟制程工艺,就已经可以基本满足除智能手机之外大多数科技产品的使用需求。届时,国产芯片无论是自给率还是产业链结构,都会迎来新一轮的“爆发”期。

综上所述,芯片产业之前是全球化的运作模式,在全球化的路线走不通之后,国内外企业,势必会在芯片领域投入大量的研发资金,打造一条“去美化”的产业链。而这将不利于美国半导体维持自己的领先地位,英特尔、AMD等美系芯片厂商的大规模裁员,也恰恰证实了比尔盖茨的担忧。对此,你又是怎么看的呢?欢迎大家留言、讨论!

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