光刻胶行业布局不足中国半导体光刻胶产能低

最近CCTV2 《经济形势观察》节目报道“光刻胶靠抢！进口芯片价格上涨20%。据海关人员介绍，企业每次进口的光刻胶量在100公斤以上；最近由于半导体原材料短缺，企业每期只能采购10-20公斤。为了保证生产线的运行，海关每次都会提前安排海关人员。光刻胶一旦进入海关，海关人员会直接进行下一步的检查监管，加快通关速度。

半导体封装测试企业负责人甚至提到，他在这个行业工作了十几年，从来没有遇到过这样紧张的局面。尤其是光刻胶，以前供应商都是来下游公司的，现在需要直接在供应商办公室工作，去“抢”生产所需的光刻胶。

光致抗蚀剂又称光刻胶和光致抗蚀剂，是一种对光敏感的有机混合物，可以阻挡光照射，用于精细图案加工。如果把芯片生产比作雕刻，那么光刻胶就是雕刻过程中使用的“墨水”，是芯片生产中不可缺少的一部分，光刻胶的质量将直接影响芯片的良率。

2019年，日韩发生贸易争端，日本宣布不允许向韩国出口光刻胶、氟化氢和氟聚酰亚胺。当时三星的接班人李在镕直接飞到日本谈判。据韩国媒体报道，三星当时只有14天的光刻胶库存，新的Note 10手机也是三星宣布减产10%。

为此，韩国政府和半导体行业宣布自救，打破日本光刻胶封锁。一年半后，韩国从日本进口的光刻胶价值增长22.3%，达到3.829亿美元。而不是国内替代，更依赖日本的光刻胶进口。

不难看出，光刻胶不仅是半导体供应链的重要组成部分，也是国家利益的筹码。

通过梳理北京柯华微电子、苏州景瑞、江苏南大光电、上海新阳、深圳荣达感光等国内光刻胶厂商的产能和背景，揭示半导体供应链的关键环节，开启国内光刻胶的现状和前景。

第一，日本厂商垄断EUV光刻胶市场，中国半导体光刻胶产能低

根据用途的不同，光刻胶可以分为三类，即半导体光刻胶、显示面板光刻胶和PCB光刻胶。

因为PCB光刻胶技术门槛最低，半导体光刻胶技术难度最大。

半导体光刻胶按曝光波长可分为EUV正型光刻胶(13.5nm)、ArF正型光刻胶(193nm)、KrF正/负型光刻胶(248nm)和I(365nm)/G(436nm)线型光刻胶，制备难度随着波长的减小而增加。EUV光刻胶是目前最难制备的光刻胶，与EUV光刻机一起成为7纳米以下的先进工艺。

根据法国市场研究公司ReportLinker的数据，2019年，全球光刻胶市场中PCB、显示面板和半导体的价值分别为1.94亿美元、2.31亿美元和1.82亿美元，分别占全球光刻胶市场的23.3%、27.8%和21.9%。

目前，全球半导体光刻胶龙头企业主要是日本公司，如东京华英(Tok)、信介化学(Shinsuke Chemical)、日本合成橡胶(JSR)、住友化学(Sumitomo Chemical)、富士胶片(fujifilm)和美国陶氏化学(Dow Chemical)，总市场份额超过85%。只有日本制造商JSR、东光和信硕化学可以供应EUV光刻胶。富士胶片和住友化学计划今年大规模生产EUV光刻胶。

但我国光刻胶行业发展不平衡，半导体光刻胶产值仅占光刻胶产值的2%，PCB光刻胶占94%。

现在中国在PCB光刻胶领域已经实现了自给自足，也是世界上最大的PCB光刻胶生产基地。然而，国内厂商在半导体光刻胶领域起步较晚，他们的生产上限

虽然中国的半导体光刻胶产能与美国和日本差距很大，但随着中国成为最大的半导体市场和中国半导体产业的进一步扩张，中国的光刻胶产业正被迫加快发展。

据IC Insights数据，2020年中国纯晶圆代工厂市场规模将同比增长26%，达到148.64亿美元。在这种情况下，预计2022年大陆半导体光刻胶市场将接近55亿元，是2019年的两倍。

苏州景瑞有限公司、江苏南大光电有限公司、上海新阳、深圳荣达感光有限公司、北京柯华微电子有限公司已逐步成为国内领先公司。

除北京柯华微电子外，景瑞股份有限公司、南大光电有限公司、上海新阳股份有限公司、荣达感光有限公司均在深交所创业板上市，市值分别为67.88亿元、113.03亿元、114.38亿元、56.71亿元。

二是南大光电ArF光刻胶投产，上海信阳购买三台光刻机加强研发

根据这五家公司的官网显示，他们的成立时间基本集中在1996年到2004年之间。除了专注于各子类别光刻胶生产的北京柯华微电子外，其他四个主要业务专注于材料和半导体。

从业务领域来看，景瑞的业务重点是泛半导体材料和新能源材料，主导产品包括光刻胶及配套材料、超净高纯试剂、锂电池材料和基础化工材料。根据景瑞有限公司2020年的财务报告，其紫外负性光刻胶、宽光谱正胶和部分G线产品已向市场供应数十年。近年来，我行光刻胶已向SMIC等企业供货，高端KrF光刻胶已完成中试。

南大光电在

30 多年的时间里形成了 MO 源、电子特气、ALD/CVD 前驱体材料和光刻胶四大业务板块。2008 年，南大光电还与北京师范大学联合成立了国内首家“光刻材料联合实验室”。去年 12 月，其国内首条 ArF 光刻胶产线已经投产，产品正在供客户验证。

上海新阳业务则主要集中于半导体领域，拥有晶圆电镀、晶圆清洗两项核心技术。根据上海新阳官网介绍，其光刻胶产品与应用即将成为该公司的第三大核心技术。目前该公司的 I/G 线胶正在研发阶段，KrF 胶和干性 ArF 胶则处于中试阶段，高分辨率 193nm ArF 光刻胶及配套材料与应用技术研发已经立项。

容大感光长期专注于 PCB 油墨及其他感光化学品的研制、开发，主要光刻胶产能集中于 PCB 光刻胶与 LCD 光刻胶领域，高分辨率 I 线胶正在研发中。

北京科华微电子官网显示，该公司产品覆盖 KrF(248nm)、I/G 线、紫外宽谱光刻胶及配套试剂。

北京科华当前已经实现了 500 吨每年的 I/G 线产能和 10 吨每年的 KrF 胶产能。干性 ArF 胶和浸没式 ArF 胶正在研发中，EUV 胶进入专项验证阶段。

北京科华微电子作为唯一一家专注于光刻胶领域的未上市公司，根据天眼查数据，其持股超过 10% 的股东有三家，分别为上海彤程电子材料有限公司、北京工业发展投资管理有限公司和美国 Meng Tech 公司，所持股份为 56.56%、17.33% 和 13.97%。其中控股的上海彤程电子为彤程新材料集团全资子公司。

此外，2015 年，南大光电通过受让以及增资方式获取北京科华 31.39% 的股份，当时宣布双方将共同开展 193nm 光刻胶的研究与产品开发，后来合作没有按计划进行。南大光电也于 2020 年 4 月将股份转让，不再持有北京科华股份。

值得一提的是，上海新阳、南大光电和晶瑞股份都购买了用于光刻胶研发、验证的二手光刻机。其中上海新阳一共购买了 3 台光刻机并投资 7.32 亿元，用于 ArF、KrF 光刻胶研发。

三、半导体局势紧张，光刻胶产业布局不足

去年，由于新冠肺炎疫情流行，全球电子产品需求激增。众多汽车厂商因为此前对市场的悲观判断，取消了芯片订单。当汽车市场迅速反弹时，汽车芯片开始出现短缺。

在恐慌情绪之下，各家厂商纷纷加大零部件库存，打乱了半导体供应链的节奏，芯片短缺逐渐蔓延到其他领域。

拜 登上台以后，美国以保障半导体供应安全为由，动作频频。此前，美国鹰派议员又提出限制中国半导体设备采购。

这种情况下，光刻胶作为芯片制造的关键一环，无疑受到了政府与产业的关注。如今，已有多项半导体政策发布，为国产光刻胶的发展提供了良好的生产环境。