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7月2日，据外媒报道，美光科技CEO兼总裁桑杰梅罗特拉(Sanjay Mehrotra)透露，他们将在2021财年第三季度的金融分析师电话会议上推出一款极紫外光刻机。
根据桑杰梅罗特拉(Sanjay Mehrotra)在金融分析师电话会议上透露的信息，美光科技计划在2024年在部分工艺节点部署极紫外光刻机，然后扩展到更多工艺节点。
桑杰梅罗特拉(Sanjay Mehrotra)也表示，他们一直在关注极紫外光刻机的发展，实际上他们正在评估极紫外光刻机的推出。
事实上，Micron Technology之前就说过会推出极紫外光刻机。桑杰梅罗特拉(Sanjay Mehrotra)在会上提到，他们已经多次表示，当他们认为EUV光刻机的平台和生态系统变得更加成熟时，他们将在适当的时候推出EUV光刻机。
值得注意的是，Micron Technology并不是第一家引入极紫外光刻机的存储芯片制造商。SK Hynix已经在其M16工厂安装了极紫外光刻机，并于2月份开始试生产1纳米动态随机存取存储器。预计今年7月开始量产。
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